关注：

1） 等离子体化学与等离子体辐照的异同

2) 射频源与微波源、辉光放电、空心阴极

http://baike.baidu.com/link?url=Ldd8AfJeCpFMAFeWWosRL79yHah_ktvPxZgC08Yx32MjJBdwzbVwnGiD4DV9bYmx3z5fOSz9sPYxsvOJ_eKoj_

射频电源是等离子体配套电源,它是由射频功率源，阻抗匹配器以及阻抗功率计组成，是八十年末期在我国新兴的高科技领域，应用于射频溅射，PECVD 化学气相沉积,，反应离子刻蚀等设备中.

现代的射频电源有了长足发展，由八十年代的电子管电源一步步的发展成现在的晶体管射频电源，功率由瓦、百瓦、千瓦、到兆瓦，频率有2Mhz/13.56Mhz/27.12Mhz/40.68Mhz等，而应用也从以前的真空领域扩展到其他领域，半导体、美容等。

实用新型公开了一种共用一个射频源的多等离子体装置，包括射频源，所述射频源通过导线连接有射频源分配器，所述射频源分配器通过导线连接有若干匹配器，每个所述匹配器连接有电极。本实用新型简化了结构，降低了成本；避免了因射频源相互干扰过程中形成锯齿状的波形的缺陷，可以持续地稳定工作；具有能长时间保证等离子体的密度，实现连续化生产；既能保证等离子体的密度，也能保证等离子体的均匀度。

常州瑞思杰尔电子科技有限公司

http://www.rishige.com/

是一家高科技股份制企业， 集研发， 制造， 销售于一体 。针对国内固态射频电源的市场空白，公司成功研发了涵盖不同频率、不同功率的全固态射频电源系列产品。我公司产品核心部件均采用国际著名公司高品质射频器件，保证了我公司全固态射频电源系列产品品质的高可靠、使用的长寿命性（可24小时连续工作，使用30年以上）；频率稳定度也达到国际先进水平。公司通过了ISO9001-2008质量体系认证；优良的核心部件，独特的加工工艺，完善的质量保证体系，打造出我公司高质量的产品，并获得了国内众多科研单位和设备制造厂家的盛誉。

瑞思杰尔电子推出的全固态射频源系列产品广泛应用于大学实验室，医疗设备、工业材料加工设备（如射频溅射、刻蚀、平行板、射频激光、ICP、RIE、CVD和PVD)，同时也应用在感应和介质加热的工业领域。用户可根据不同功率（50瓦，100瓦，200瓦，500瓦，1KW，2KW，3.5KW，6KW，10KW，12.5KW）、不同射频频率（13.56MHz /27.12MHz /40.68MHz / 60MHz/ 81.36MHz/ 100MHz) 及脉冲频率（0～100KHz）选用相应的机型。我们也欢迎用户根据自己的特殊需要来洽谈，为其系统订做专用频率和功率的全固态射频电源。

　　瑞思杰尔电子推出的宽带射频功率放大器，覆盖范围2MHz～150MHz，功率规格150W，250W， 500W，并配有相应的宽带射频匹配器。

 真空镀膜直流四级溅射是在真空镀膜直流二级溅射的基础上，在真空镀膜室外加聚焦线圈，聚焦线圈磁场强度10-1T,气体放电的气压为(1-5)X10-1Pa,真空镀膜靶电压为1—24KV，聚焦线圈的作用是将电子聚集在真空镀膜靶阴极和工件之间，电子作螺旋运动，增加电子到达电子收集级的路程，从而增加非弹性碰撞概率。电流密度达2—5mA/cm2。 以上真空镀膜阴极溅射技术均采用直流溅射电源，只适于导电膜，如果用于真空镀膜沉积绝缘膜时，靶材表面会产生“中毒”现象，因为，在沉积绝缘膜时，靶面上也会形成一层绝缘物，使得氩离子堆积在真空镀膜的靶面上，不能直接进入靶阴极产生真空镀膜阴极溅射。氩离子的堆积还会引起“击穿”造成“打弧”现象，使真空镀膜溅射过程无法进行，所以采用射频溅射技术。 真空镀膜射频溅射装置是把真空镀膜直流二级溅射使用的电源换乘射频电源，真空镀膜射频电源由频率振荡器构成，通过匹配器连接在靶上，一般真空镀膜靶材选用SiO2,Ai2O3等绝缘材料，真空镀膜靶材接阴极，工件接阳极，与机壳连接，并接地，工业用安全频率为13.56MHz，气体放电的气压为3X10-1—2.5X10-2Pa，真空镀膜的靶电压为1-2KV；。放电电流密度较强。