激光微抛光技术的研究以激光对玻璃微抛光的研究作为开始。Y. M. Xiao and Michael Bass,采用300 CW CO2激光对熔融石英和Pyrex玻璃进行抛光,是激光抛光研究的较早报道。他们有意识地用600号砂纸打磨Pyrex玻璃,然后用光束直径是11mm的CO2激光进行照射。实验结果表明激光抛光可以对砂粒磨痕进行有效消除。西班牙学者F.Laguarta课题组同样采用CO2激光为抛光工具,抛光光学材料(TRC-33)表面,RMS方均根值从初始约500nm到最后低于10nm 。日本东海大学电子工程系Masataka Murahara等人采用了光化学辅助反应的抛光机理,采用ArF准分子激光通过石英片辐照在碳氟化合物基盘上。在他们报道中,该方法获得的研磨粗糙度达到1nm。土耳其安卡拉中东技术大学物理系M. Udrer等,采用10WCO2激光对石英光纤的端面进行了抛光试验研究。在140 W/cm2参数下,获得最佳辐照时间为6秒。最后获得了300nm~1mm的粗糙度。其采用原子力显微镜获得的照片结构表面熔化机理在抛光过程中是非常明显的。英国赫瑞特瓦特大学工程和理学院Krzysztof M. Nowak等,也报道了采用CO2激光抛光石英光学元件的研究[7]。我国华中科技大学和华南理工大学的科研人员,也开展了激光抛光技术的相关研究。