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送粉激光熔覆界面特性及熔覆层稀释率

已有 2925 次阅读 2009-7-13 11:15 |个人分类:未分类|系统分类:科研笔记|关键词:学者| 组织, 送粉激光熔覆, 结合界面, 稀释率

摘要 通过调整扫描速度、送粉速率、熔覆材料颗粒度进行单道送粉激光熔覆试验,借助显微组织分析、扫描电子
显微分析、透射电子显微分析,研究了工艺参数对送粉式激光熔覆层与基体间结合界面形态及界面附近组织结构
的影响规律:工艺参数对熔覆层稀释率的影响作用,提出熔覆层界面附近局部稀释率的概念。

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1 蒋敏强

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