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关于原子层沉积(ALD)的几个新资料

已有 13430 次阅读 2011-12-24 00:14 |个人分类:写作与发表|系统分类:科研笔记|关键词:学者

推荐两个最新的很实用的关于Atomic layer deposition 技术及其应用的资料。
 
N. Pinna and M. Knez, eds., Atomic Layer Deposition of Nanostructured Materials, Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 2011.
 
Progress and future directions for atomic layer deposition and ALD-based chemistry
 
 
再有就是我们组自己的一篇小文章。Nanoscale 邀请的 Feature article, 即将上网。可以在课题组主页上下载。
http://www3.ntu.edu.sg/home/fanhj/pub.html

 
 


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1 童希立

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