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半导体里程_博物馆_1968年数据转换功能被专用电流源IC整合
WanghuataoHIT 2012-3-5 10:58
半导体里程_博物馆_1968年数据转换功能被专用电流源IC整合
图一仙童公司具有10位模数转换器的电流源-μA722 图二 DAC08 8位输入转换成一个模拟输出 图三单独的双极和CMOS组合包括从1978年年的12位ADCAD574 图四 AD 561和574设计者彼得.霍罗伟 1968 年 - 专用电流源 IC 集成了数据转换功能 将模拟和数字功能结合在一个芯片上制造精度要求,使他们成为众多使用先进单片解决产品问题的厂家之一。 数字是操纵多种信息最有效的形式。然而,现实世界的数据,在本质上是模拟的,必须转换成数字形式进行处理。结合模拟和数字电路的信号,这两种模式之间翻译的集成电路被称为混合信号设备。许多方法被用来完成从模拟到数字(ADC)和数模转换器(DAC)转换,每个方法都需要在不同的精度,速度和成本之间的权衡。 仙童公司的1968年乔治尔德设计的μA722是最早集成电路专用数据转换应用功能的10位电流源之一。在20世纪70年代,许多厂商包括ADI公司,AMD公司,哈里斯,Intersil公司,摩托罗拉,国家半导体,精密整体耐火材料(PMI),德州仪器,和TRW公司开发的家庭设备中的特定部分都集成了数据转换功能。 利用扩散电阻PMI的丹·杜利在1969年设计的第一个完全集成的DAC,6位DAC01。摩托罗拉(MC1408)和PMI(DAC08)随后在1975年的研制了8位器件。由位分辨率表示数据转换器的精度,受制于电阻串的准确性。位分辨率越大,电阻需要的精度越高。在1976年,彼得霍洛威在亚德诺半导体激光通过修剪晶圆薄膜电阻制造的AD561实现了首个单芯片10位DAC的精度要求。使用集成注入逻辑(I2L)双极电路技术,ADI公司的保罗布罗考在1978年设计了第一块单片ADC,10位的AD571。由于ADC比DAC要求更多电路元件,通过双极双芯片和CMOS来解决12位和较高的功能的方案在20世纪80年代初盛行一时。 译者:哈尔滨工业大学(威海)电子封装 090840216-鞠伯伦 校对:哈尔滨工业大学(威海)电子封装 090840226-王延博 原文: http://www.computerhistory.org/semiconductor/timeline/1968-Data.html 版权 copyright by www.computerhistory.org ———————————————————————————————————————— 1968 - Dedicated Current Source IC Integrates a Data Conversion Function The precision manufacturing requirements of combining analog and digital capability on one chip made them one of the last product areas to yield to monolithic solutions. Digital is the most efficient form for manipulating many kinds of information. However, real world data is analog in nature and must be converted to digital form for processing. Integrated circuits incorporating analog and digital circuitry where signals are translated between these two modes are called mixed-signal devices. Numerous approaches are used to accomplish Analog to Digital (ADC) and Digital to Analog (DAC) conversion; each entails different trade offs between accuracy, speed, and cost. Fairchild’s George Erdi designed one of the first ICs dedicated to data conversion applications, the A722 10-bit Current Source, in 1968. In the 1970s many vendors including Analog Devices, AMD, Harris, Intersil, Motorola, National Semiconductor, Precision Monolithics (PMI), TI, and TRW developed families of devices that integrated specific portions of the data conversion function. Using diffused resistors PMI's Dan Dooley designed the first fully integrated DAC, the 6-bit DAC01 in 1969. Motorola (MC1408) and PMI (DAC08) followed with 8-bit devices in 1975. The accuracy of data converters, expressed as bit resolution, is limited by the accuracy of a string of resistors. The larger the bit resolution, the higher the accuracy required of the resistors. In 1976 Peter Holloway at Analog Devices laser trimmed thin-film resistors on the wafers to achieve the required precision for the first single-chip 10-bit DAC, the AD561. Using integrated injection logic (I2L) bipolar circuit techniques, Paul Brokaw of Analog Devices designed the first monolithic ADC, the 10-bit AD571, in 1978. As ADCs require more circuit components than DACs, two-chip bipolar and CMOS solutions prevailed for 12-bit and higher functions through the early 1980s.
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半导体里程_博物馆_1968年 - 集成电路的硅栅技术开发
WanghuataoHIT 2012-3-5 10:56
半导体里程_博物馆_1968年 - 集成电路的硅栅技术开发
1968年- 集成电路的硅栅技术开发 费德里 科 法根 和汤姆·克莱 用硅栅结构提高了可靠性,封装密度, MOS集成电路的速度 。faggin设计的 了 一个商业化的硅栅集成电路-飞兆半导体3708。 在贝尔实验室的 RobertKerwin,DonaldKleinandJohnSarace 在1967年 用 硅多晶层取代铝金属栅电极提高 了 速度,可靠性和MOS晶体管的 封装 密度(1960里程碑)。博伊德沃特金斯 在 1965年的一般微电子学中 描述 了一个类似 硅栅自对准 的 结构但直到1969年专利申请延迟。费德里科Faggin作为项目负责人,曾在研发商业化的芯片 的 飞兆半导体技术 中 与汤姆·克莱因 合作 。然后 F aggin采用新技术重新设计现有的P-沟道金属 栅 8通道模拟多路复用电路,并于1968年,推出飞兆半导体的首个硅门集成电路,3708。 继飞兆半导体的概念证明 后 ,英特尔追求的硅栅 作为 半导体记忆体 因为它的 主要技术 传递速度快了 3至5倍在传统的MOS芯片 领域占了 一半。英特尔的第一个商业MOS器件,1101256位的RAM,在1969年推出。 F aggin于1970年加入英特尔 尔 公司。通过 给 逻辑应用等过程添加一个 隐秘 的联系 和过程 增强,他 得以能够设计 4004微处理器CPU 以符合 制造模具 的 大小。(1971年里程碑) 英特尔在硅栅转移到生产的开创性的工作 遇到 了许多挑战,但 通过 允许早期引进的高密度动态存储器给 公司带来了 一个重要的竞争 向导 。(1970年里程碑),这也使EPROM存储器不能 经济性的 完成与金属栅极技术 的结合得到了 (1971里程碑) 的发展 。五年内硅栅MOS 因为 取代双极技术新的IC产品 而 成为 工业发展的进程标志 , 除了 最高速 应用不太尽人意 。 当代的文件 Kerwin,RobertE.,Klein,DonaldL.,Sarace,JohnC ,“ 制造 MIS结构的方法,”美国专利3475234(1967年3月27日提 出 1969年10月28日 发行 )。 Watkins,BoydG. 和 Selser,MichaelJ .“半导体设备和生产相同的方法,”加拿大专利8258​​44(1967年9月5日 提出, 1969年10月21日 发行 )。美国专利3576478(1969年7月22日 提出, 1971年4月27日 发行 )。 Sarace,J.C.,Kerwin,R.E.,Klein,D.E., 和 Edwards,R .“金属-氮化物-氧化物自对准 栅 晶体管 的 硅场效应”固态电子卷。11,第7期(1968年7月),页653-660。 Faggin,F.,Klein,T., 和 Vadasz,L “晶体管集成电路 的 硅 栅 绝缘栅场效应”IEEE电子器件的交易,卷1 6 ,第2期(1969年二月)P。236。 F aggin克莱因,T“硅栅技术,”固态电子,卷。13(1970)第1125至1144年。 口述历史笔录在计算机历史博物馆在线 Faggin,F.,Klein,T (仙童,英特尔,Zilog公司),口述历史“(2004年9月22日) 飞兆半导体“MOS集成电路产品”50周年面板-阿梅里奥Faggin,Phillon,沃克(2007-10-5) 更多的口述历史 Faggin,Federico (仙童,英特尔)硅创采访(1995年3月3日)。特藏部,斯坦福大学图书馆,斯坦福大学,加州。 Faggin,Federico , 电气工程师,2004年在约翰·Vardalas,IEEE历史中心,罗格斯大学,新不伦瑞克,新泽西 , 美国口述历史。 更多信息 Faggin,FedericoandKlein,Thomas 。“硅栅集成电路 , 一个更快的低阈值MOS器件 乘着 新一波的 浪潮发展” 电子 杂志 (9月29日,1969年)88-94页。 Vasdaz,L.L.,Grove,A.S.,Rowe,T.A.,Moore,G.E “硅栅技术,” IEEESpectrum 。 第六章 第10 单元 (1969年10月),页28-35。 译者:哈尔滨工业大学(威海)电子封装技术 090840217-李新亮 校对:哈尔滨工业大学(威海) 原文: http://www.computerhistory.org/semiconductor/timeline/1968-SGT.html 版权: Credit: Fairchild Camera Instrument Corporation 英文原文: 1968-SiliconGateTechnologyDevelopedforICs FedericoFagginandTomKleinimprovethereliability,packingdensity,andspeedofMOSICswithasilicon-gatestructure.Faggindesignsthefirstcommercialsilicon-gateIC–theFairchild3708. FedericoFagginandTomKleinatFairchildRDin1967 Credit:FairchildCameraInstrumentCorporation RobertKerwin,DonaldKleinandJohnSaraceatBellLabsimprovedthespeed,reliability,andpackingdensityofMOStransistors( 1960Milestone )byreplacingthealuminummetalgateelectrodewithapolycrystallinelayerofsiliconin1967.BoydWatkinsdescribedasimilarself-aligned,silicon-gatestructureatGeneralMicroelectronicsin1965butpatentfilingwasdelayeduntil1969.Asprojectleader,FedericoFagginworkedwithTomKleinatFairchildRDtocommercializethetechnologyforICs.Fagginthenredesignedanexisting p -channelmetal-gate8-channelanalogmultiplexercircuitusingthenewtechnologyandin1968Fairchildintroducedthefirstsilicon-gateIC,the3708. FollowingFairchild’sproofofconcept,Intelpursuedsilicon-gateastheprimarytechnologyforsemiconductormemoriesasitdelivered3to5timesfasterspeedinhalfthechipareaofconventionalMOS.Intel’sfirstcommercialMOSdevice,the1101256-bitRAM,wasintroducedin1969.FagginjoinedIntelin1970.Byaddingaburiedcontactandotherprocessenhancementsforlogicapplicationshewasabletodesignthe4004microprocessorCPUtofitonamanufacturablediesize.( 1971Milestone ) Intel’spioneeringworkintransferringsilicon-gatetoproductionpresentedmanychallengesbutgavethecompanyasignificantcompetitiveleadbypermittingtheearlyintroductionofhighdensitydynamicRAMs.( 1970Milestone )ItalsoenabledthedevelopmentofEPROMmemories( 1971Milestone )thatcouldnotbeaccomplishedeconomicallywithmetalgatetechnology.Withinfiveyearssilicon-gateMOShadbecometheindustrystandardprocessfornewICproductdevelopmentreplacingbipolartechnologyinallbutthehighestspeedapplications. ContemporaryDocuments Kerwin,RobertE.,Klein,DonaldL.,Sarace,JohnC."MethodformakingMISstructures," U.S.Patent3475234 (FiledMarch271967.IssuedOctober28,1969). Watkins,BoydG.andSelser,MichaelJ."SemiconductorDeviceandMethodforProducingSame," CanadianPatent825844 (FiledSeptember5,1967.IssuedOctober21,1969).Seealso U.S.Patent3576478 (FiledJuly22,1969.IssuedApril27,1971). Sarace,J.C.,Kerwin,R.E.,Klein,D.E.,andEdwards,R."Metal-nitride-oxide-siliconfield-effecttransistors,withself-alignedgates," Solid-StateElectronics, Vol.11,Issue7(July1968)pp.653-660. Faggin,F.,Klein,T.,andVadasz,L."Insulatedgatefieldeffecttransistorintegratedcircuitswithsilicongates," IEEETransactionsonElectronDevices, Vol.16,Issue2(Feb1969)p.236. Faggin,F.,Klein,T."SiliconGateTechnology," SolidStateElectronics, Vol.13(1970)pp.1125-1144. OralHistorytranscriptsonlineattheComputerHistoryMuseum Faggin,Federico(Fairchild,Intel,Zilog),anoralhistory(2004-9-22) FairchildSemiconductor"MOSICProducts"50thanniversarypanel-Amelio,Faggin,Phillon,Walker(2007-10-5) MoreOralHistories Faggin,Federico(Fairchild,Intel)TheSiliconGenesisInterviews(3.3.1995).DepartmentofSpecialCollections,StanfordUniversityLibraries,Stanford,California. Faggin,FedericoElectricalEngineer,anoralhistoryconductedin2004byJohnVardalas,IEEEHistoryCenter,RutgersUniversity,NewBrunswick,NJ,USA. MoreInformation Faggin,FedericoandKlein,Thomas."AfastergenerationofMOSdeviceswithlowthresholdsisridingthecrestofthenewwave,silicon-gateIC’s," Electronics (September29,1969)pp.88-94. Vasdaz,L.L.,Grove,A.S.,Rowe,T.A.,Moore,G.E.“SiliconGateTechnology,” IEEESpectrum, Vol.6No.10(October1969)pp.28-35.
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半导体里程_博物馆_1969-肖特基势垒二极管双打的速度内存与逻辑
热度 2 WanghuataoHIT 2012-3-5 10:55
半导体里程_博物馆_1969-肖特基势垒二极管双打的速度内存与逻辑
设计创新,提高速度和降低能耗的行业标准的 64 位晶体管内存架构。迅速应用到新的双极逻辑和存储器的设计。 自 1963 TTL ( 1963 里程碑)设备的复杂性,先进的 20 倍,但开关速度保持在每门 10-15 纳秒的延迟相对不变。速度取决于如何快速充电晶体管存储可以去掉。黄金兴奋剂-- 金掺杂 ( 1961 年里程碑)改善,但难以控制。在 1964 年 JR 贝尔德的德州仪器公司( TI )提出使用金属 - 半导体二极管,称为肖特基势垒二极管( 1931 年里程碑) ,分流围绕晶体管的电荷。特德•詹金斯和加思飞兆半导体威尔逊在 1967 年双极型集成电路二极管制造。同时,日本的电工实验室开发出了类似的设计。英特尔设计师理查德•博恩和 H. ţ 蔡氏使用肖特基二极管,在该公司的第一款产品, i3101 64 位的 RAM 的设计。在 1969 年介绍,该装置是较早实现快速的近两倍。 1966 年(里程碑) 在 1971 年 T.I. 推出的 74S 系列 TTL 逻辑系列,采用肖特基二极管,以达到 3 ns 的高速应用的大门延误。低功耗的的肖特基版本,指定的 LS ,迅速取代了原来的 7400 设备,五分之一的电力消耗,提供相同的速度。主席 Mark Shepherd 7400LS 描述为“单一德州仪器的历史中最有利可图的产品线。 ” AMD , Fairchild ,摩托罗拉,国家和 Signetics 也进入了市场。后人,包括 Fairchild 先进的肖特基技术(快速) ,分 2ns 的延迟氧化物隔离工艺相结合的肖特基二极管。 在 70 年代中期,微型可编程位片处理器从 AMD ,英特尔,人机界面,并使用肖特基技术集成 LSI 为高性能运算处理应用的积木 Signetics 公司家庭。 ( 1979 年里程碑) 译者:哈尔滨工业大学(威海)电子封装 090840218赵家玮 原文: http://www.computerhistory.org/semiconductor/timeline/1969-Schottky.html 版权 copyright by www.computerhistory.org The i3101 Schottky TTL 64-bit RAM was Intel's first product 该 i3101 肖特基 TTL64 位内存是英特尔的第一款 Courtesy of: Intel Corporat 74S00 Schottky TTL gate function introduced by TI in 1971 . 74s00 肖特基晶体管晶体管逻辑门功能介绍了钛在 1971 Courtesy of: Texas Instruments, Inc. Introduced in 1975, the Am2901 bit-slice microprocessor used Low-power Schottky (LS) process technology 1975 推出的微处理器, am2901 位片采用低功耗肖特基(镑)工艺技术 Credit: CHM Collection. Gift of John Corbitt Walter Schottky stands between transistor pioneers John Bardeen and Walter Brattain 肖特基•沃尔特站在的先驱约翰巴丁和布拉顿之间 Courtesy of: AIP Emilio Segre Archive, Brattain Collection Since 1963 TTL ( 1963 Milestone ) device complexity had advanced twenty-fold but switching speeds remained relatively unchanged at delays of 10-15 ns per gate. Speed is determined by how quickly charge stored in a transistor can be removed. Gold-doping ( 1961 Milestone ) improved this but was difficult to control. In 1964 J. R. Baird of Texas Instruments (T.I.) proposed using ametal-semiconductor diode, called a Schottky-barrier diode ( 1931 Milestone ), to shunt charge around the transistor. Ted Jenkins and Garth Wilson of Fairchild fabricated such a diode on a bipolar integrated circuit in 1967. Concurrently Japan's Electrotechnical Laboratory developed a similar design. Intel designers Richard Bohn and H. T Chua used a Schottky diode in the design of the company's first product, the i3101 64-bit RAM. Introduced in 1969, the device was nearly twice as fast as earlier implementations. ( 1966 Milestone ) In 1971 T.I. introduced the 74S Series TTL logic family using Schottky diodes to achieve 3 ns gate delays for high-speed applications. Low-power Schottky versions, designated LS, quickly replaced the original 7400 devices by offering the same speed at one fifth the power consumption. Chairman Mark Shepherd described 7400LS as "the single most profitable product line in the history of Texas Instruments." AMD, Fairchild, Motorola, National, and Signetics also entered the market. Later generations, including Fairchild Advanced Schottky Technology (FAST), combined Schottky diodes with oxide-isolation processes for sub-2ns delays. In the mid-1970s micro-programmable "bit-slice" processor families from AMD, Intel, MMI, and Signetics used Schottky technology to integrate LSI building blocks for very high performance arithmetic processing applications. ( 1979 Milestone )
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半导体里程_博物馆_1970 - MOS动态存储器和磁芯存储器相争
WanghuataoHIT 2012-3-5 10:53
1970 - MOS动态存储器和磁芯存储器相争 约翰 · 施密特设计一个 64 位 p-channel 静态 RAM 在飞兆半导体 (MOS) 在 1964 年。供应商的 1968 萨姆 ( 半导体活跃记忆 ) 项目的十六巴勒斯一般聚集这些芯片在陶瓷基板 , 形成 1024 位混合的数组。整体解决方案和类似的 multi-chip 不久就追上了这个项目在计算机 Microtechnology 、英特尔、摩托罗拉、及 TI(SMA) 。 减少芯片尺寸乔尔 Karp GMe 构思出一种动态的时序方案 Boysel 适应李建造 256 位动态公绵羊在飞兆半导体在 1968 、 1024 和 2048 位装置系统在四个阶段在 1969 年。这些和竞争来自于先进的记忆系统达利克 (AMS6001) 采用晶体管每 4 到 6 点。霍尼韦尔的法案提出了一个 3-transistor 细胞 Regitz 实施 Karp 在英特尔 p-channel 硅门过程 (1968 里程碑 ) 。泰德霍夫提出改进 , 设计了由鲍勃 · 艾博特和调试了鲍勃芦苇于公元 1103 年。提供很多更快的速度 , 标价 1 分 / 一点 , 从 1970 年开始 ,1103 年很快换成了磁性核心技术对计算机内存。沃尔特 Krolikowski 描绘了一幅 Cogar 更快的 n-channel DRAM 于 1970 年。 IBM 是第一个进行这种新的生产工艺技术对系统 1972 年的 370/158 。 Mostek 罗伯特 Proebsting ion-implanted 电阻器用于减少功率消耗及模具尺寸足够装 4 K 位 (MK4096) 进入一个常规 16-pin 包裹于 1973 年。在 16 K(MK4116) 水平在 1976 年 Mostek 采用晶体管单管记忆细胞 , 由 IBM 公司专利的研究员罗伯特 ·Dennard 及设计方法 Karl-Ulrich 斯坦描述西门子。这种做法造成了 64 K 达利克从日本和美国的供应商在最后的十年、大容量的记忆系统 , 半导体 , 更经济可靠比磁芯。 译者:哈尔滨工业大学(威海)电子封装技术 090840219--周明川 校对:哈尔滨工业大学(威海) http://www.computerhistory.org/semiconductor/timeline/1970-DRAM.html 原文: John Schmidt designed a 64-bit MOS p -channel Static RAM at Fairchild in 1964. Fairchild’s 1968 SAM (Semiconductor Active Memory) program for Burroughs assembled sixteen of these chips on ceramic substrates to form 1024-bit hybrid arrays. Monolithic solutions soon overtook this and similar multi-chip projects at Computer Microtechnology, Intel, Motorola, and TI (SMA 2001). To reduce chip size Joel Karp of GMe conceived a dynamic clocking scheme that Lee Boysel adapted to build 256-bit dynamic RAMs at Fairchild in 1968 and 1024 and 2048-bit devices at Four Phase Systems in 1969. These and competing DRAMs from Advanced Memory Systems (AMS6001) employed 4 to 6 transistors per bit. Honeywell’s Bill Regitz proposed a 3-transistor cell that was implemented by Karp in Intel’s p-channel silicon gate process ( 1968 Milestone ). Improvements suggested by Ted Hoff, designed by Bob Abbott and debugged by Bob Reed resulted in the 1103. Offering much faster speed and priced at 1 cent/bit, beginning in 1970 the 1103 quickly replaced magnetic core technology for computer main memory. Walter Krolikowski of Cogar described an even faster n-channel DRAM in 1970. IBM was the first manufacturer to commit to this new process technology on System 370/158 in 1972. Mostek's Robert Proebsting used ion-implanted resistors to reduce power consumption and die size sufficiently to pack 4K bits (MK4096) into a conventional 16-pin package in 1973. At the 16K level (MK4116) in 1976 Mostek adopted the single transistor memory cell patented by IBM researcher Robert Dennard and design methods described by Karl-Ulrich Stein of Siemens. This approach led to 64K DRAMs from Japanese and US vendors before the end of the decade and large capacity semiconductor memory systems that were as reliable as and more economical than magnetic cores. IMG style="FILTER: ; ZOOM: 1; CURSOR: pointer" class=replaced title="Next image " src="http://www.computerhistory.org/semiconductor/assets/images/400x400/1970_1_1.jpg" width=400 height=400 jQuery1331342725637="31" Fairchild 1024-bit SAM multi-chip memory plane uses sixteen 64-bit PMOS Static RAM chips (1968) Credit: Fairchild Camera Instrument Corporation 山姆 multi-chip 供应商 1024 位平面使用内存十六 64 位 PMOS 静态 RAM 芯片 (1968) 贷款 : 照相机和器械企业供应商 IMG style="FILTER: ; ZOOM: 1; CURSOR: pointer" class=replaced title="Next image " src="http://www.computerhistory.org/semiconductor/assets/images/400x400/1970_1_2.jpg" width=400 height=400 jQuery1331342725637="32" IMG style="FILTER: ; ZOOM: 1; CURSOR: pointer" class=replaced title="Next image " src="http://www.computerhistory.org/semiconductor/assets/images/400x400/1970_1_3.jpg" width=400 height=400 jQuery1331342725637="48" IMG style="FILTER: ; ZOOM: 1; CURSOR: pointer" class=replaced title="Next image " src="http://www.computerhistory.org/semiconductor/assets/images/400x400/1970_1_4.jpg" width=400 height=400 jQuery1331342725637="34"
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半导体里程_博物馆_1971 可编程只读存储器重用迭代设计的灵活性
WanghuataoHIT 2012-3-5 10:51
格式要求, http://blog.sciencenet.cn/home.php?mod=spaceuid=652849do=blogid=544164
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半导体里程_博物馆_1974 -通用单片机家族公布于世
WanghuataoHIT 2012-3-5 10:42
1974 - 通用单片机家族公布于世 一个单芯片的计算机设计的出现乃是 TMS 1000 单片机微单位或一个概念 , 引发了通用数字者家庭权力的工具和发达国家的玩具。 单片机为核心的单元 (MCU) 由相同的基本 ROM 、 RAM 和 CPU 因素以一种微处理器 ( 微控制器 ) 控制要求较低的任务如一个玩具或一个微波炉。这些应用程序不需要的终极速度或程序的复杂性 , 可以实现单片机设计 , 用更少的组件功能齐全适合在一个芯片上。 加里 Boone 和迈克尔的 1971 年《德州仪器的设计 TMS1802 计算机设备提供了基础的单片机为 TMS1000 通用 4 比特 MCU 家庭于 1974 年公布。定价为 $ 2 。在数量上 , 它的动力防盗警报、车库门开启器、游戏、玩具 , 如 “ 讲话和拼写 “ 介绍数码电子给消费者。 在 1976 年 , 两 Mostek 英特尔 (3870) 引入更严格的 8 位的体系结构 , 这种结构服务应用于汽车、电脑外设。英特尔 MCS-48 家庭提供了可擦可编程只读存储器 (8748) 和 (8048)masked-ROM 版本。可编程只读存储器的版本 MCUs 实用了原型与会收取少许生产体系。 (1971 年里程碑 ) 英特尔更加强大 ,1980 年的继任者 ,8051 年 , 成立了一个标准建筑 , 今天在众多变异幸存的具体应用。 到了 1980 年代 MCU 体系结构从欧洲、日本和美国的制造商众多专用应用。服务贝尔实验室的 MAC-4 遇到了电信的需要。摩托罗拉和日立公司从 68000 年 MCUs 派生高性能微处理器。通用设备的家庭照片 ( 今天微芯片 ) 赢的低成本的消费者设计。隐藏在小几百人在电器、汽车、个人电子产品 , 采用单片机可能是当今世界上最无所不在的半导体器件。 译者:哈尔滨工业大学(威海)电子封装 090840222--魏浩 校对:哈尔滨工业大学(威海) http://www.computerhistory.org/semiconductor/timeline/1974-MCU.html 原文: A single-chip calculator design emerges as the TMS 1000 micro-control unit or MCU, a concept that spawned families of general-purpose digital workhorses that power the tools and toys of the developed world. A microcontroller unit (MCU) comprises the same basic ROM, RAM and CPU elements as a microprocessor (MPU) for less demanding tasks such as controlling a toy or a microwave oven. As these applications do not require the ultimate in speed or program complexity, MCU designs can be implemented with fewer components so that the complete function will fit on a single chip. Gary Boone and Michael Cochran’s 1971 design of Texas Instruments TMS1802 single-chip calculator device provided the foundation for the TMS1000 general-purpose 4-bit MCU family announced in 1974. Priced at $2 in volume, it powered burglar alarms, garage door openers, games, and toys such as "Speak and Spell" that introduced digital electronics to the consumer. In 1976 both Intel and Mostek (3870) introduced 8-bit architectures that served more demanding applications in automobiles and PC peripherals. The Intel MCS-48 family offered both EPROM (8748) and masked-ROM (8048) versions. The EPROM version made MCUs practical for prototyping and low-volume production systems. ( 1971 Milestone ) Intel's more powerful 1980 successor, the 8051, established a standard architecture that survives today in numerous variants for specific applications. By the 1980s MCU architectures from European, Japanese and US manufacturers served numerous special-purpose applications. Bell Laboratories’ MAC-4 met telecommunications needs. Motorola and Hitachi derived high-performance MCUs from the 68000 MPU. General Instrument's PIC family (today Microchip) won low-cost consumer designs. Hidden by the hundreds in appliances, automobiles, and personal electronics products, the MCU may be today’s most ubiquitous semiconductor device. IMG style="FILTER: ; ZOOM: 1; CURSOR: pointer" class=replaced title="Next image " src="http://www.computerhistory.org/semiconductor/assets/images/400x400/1974_1_1.jpg" width=400 height=400 jQuery1331346818939="21" An early version of the TMS 1000 microcontroller Courtesy of: Texas Instruments, Inc. 一个早期版本的 TMS 1000 单片机 由 : 德克萨斯仪器公司
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半导体里程_博物馆_1974 量化集成电路工艺设计规则的缩放
WanghuataoHIT 2012-3-5 09:53
半导体里程_博物馆_1974 量化集成电路工艺设计规则的缩放
IBM 公司的研究员罗伯特 · 迪纳德关于过程缩放型记忆的论文加速了收缩物理尺寸的全球竞赛和制造更复杂的集成电路。 在 60 年代,每个推进光刻能力面具尺寸的线性收缩提供一个快速解决提高速度和降低成本的集成电路。在 1962 年托马斯斯坦利的研究实验室发表的分析指出,由于其临界速度的极限尺寸,栅极长度,躺在横向而不是纵向平面双极器件,这是特别重要的金属氧化物半导体晶体管。 比例原则在布鲁斯卡弗 · 米德 hoeneisen 和加州理工学院的罗伯特迪纳德和他的同事的 1972 个文件被描述。由于登纳德等的 1974 个文件,引起微电子业界的关注与造成的深远影响。他们指出,由于晶体管的横向尺寸的比例系数,因相同的因素速度得到了提高。当时的 绝缘性场效应管 最小尺寸为 5 微米,他们预计缩小微米组分。(人的头发是 50 - 100 微米直径)这是第一次尝试将几何收缩所产生的结果降低功耗和性能改进。这给戈登穆尔( 1965 年)的 “ 定律 ” 提供了科学基础。 1976 年, MITI 组织公司,富士通日立,三菱、东芝,成一个联盟,超大规模集成电路技术研究协会,包括概念,缩放和结合日本光学和精细的制造优势在 70 年代末在全球范围内提供了 64K 动态随机存取存储器( 1970 的里程碑事件)。在这些高能晶体管上计算的功率消耗加快了 互补金属氧化物半导体 管技术的发展( 1963 的里程碑事件)。 这种尺寸 互补金属氧化物半导体 管的能力在 2006 年末允许尺寸收缩至 100 纳米( 0.1 微米)以下和像 IBM 公司 / 索尼 / 东芝的芯片为第三代游戏机提供了 234000000 个晶体管细胞处理器。 80年代中期IBM研究员 罗伯特· 迪纳德 伴随最小特征尺寸内存单元尺寸的减小 100纳米cmos晶体管的扫描电镜图像 第三代游戏机23000000晶体管细胞处理器 译者:哈尔滨工业大学(威海)电子封装090840224-宁尚佳 校对:哈尔滨工业大学(威海)电子封装 090840227-吴喆熹 原文 http://www.computerhistory.org/semiconductor/timeline/1974-Scaling.html 版权 copyright by www.computerhistory.org ———————————————————————————————— 1974 - Scaling of IC Process Design Rules Quantified IBM researcher Robert Dennard’s paper on process scaling on MOS memories accelerates a global race to shrink physical dimensions and manufacture ever more complex integrated circuits. Linear shrinking of mask dimensions with each advance in lithographic capability provided a quick fix to enhance the speed and reduce the cost of ICs in the 1960s. Thomas Stanley of RCA Research Laboratories published an analysis in 1962 noting that this was particularly relevant to the MOS transistor because its critical speed limiting dimension, the length of the gate, lay in the horizontal rather than the vertical plane of bipolar devices. Scaling principles were described in 1972 papers by Bruce Hoeneisen and Carver Mead of Caltech and by IBM's Robert Dennard and his colleagues. But it was a 1974 paper by Dennard, et. al. that caught the attention of the industry with a resulting profound effect on microelectronics. They noted that as the horizontal dimensions of a transistor were scaled by a factor, speed improved by that same factor. At a time when IBM's MOS memories used a minimum dimension of 5 microns, they projected shrinking to fractions of a micron. (A human hair is 50-100 microns in diameter) This was the first attempt to relate a geometry shrink to the resulting power reduction and performance improvement. It gave Gordon Moore's ( 1965 Milestone ) "Law" a scientific foundation. In 1976 MITI organized Hitachi, NEC, Fujitsu, Mitsubishi and Toshiba into a consortium, the VLSI Technology Research Association, that embraced the concept of scaling and combined it with Japanese optical and ultra-clean manufacturing strengths in a global race to deliver 64K DRAMs ( 1970 Milestone ) by the end of the decade. Power consumption at these high transistor counts accelerated the adoption of CMOS technology. ( 1963 Milestone ) The ability to scale CMOS allowed dimensions to shrink below 100 nanometers (0.1 micron) by 2006 and to deliver chips such as the IBM/Sony/Toshiba 234 million transistor Cell processor for the Playstation 3.
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半导体里程_博物馆_1978 用户可编程逻辑设备出现
热度 1 WanghuataoHIT 2012-3-5 09:34
半导体里程_博物馆_1978 用户可编程逻辑设备出现
图一 20 世纪 80 年代中期的约翰和 HT 蔡氏 发明单片存储器的约翰和 HT 蔡氏开发了易于使用的可编程阵列逻辑( PAL )和快速原型的定义逻辑功能的设备和工具 创意逻辑设计师意识到,小、快速的 PROM ( 1971 里程碑) ,也可以配置进行简单的逻辑功能。霍尼韦尔要求的基础上,于 1975 年,罗恩·克莱为适合更复杂的逻辑需求适应 Signetics 公司 PROM 电路技术设计了 82S100 可编程逻辑阵列( PLA )。一个所需的功能,表示为布尔逻辑方程,是输入保险丝编程单元,即刻杂设计师的桌面上生成一个定制的 IC 。 约翰和 H.T. 蔡氏与安迪陈在 1978 年推出的一个更精简的架构,他们称为可编程阵列逻辑( PAL ) ,其交易逻辑灵活,有更快的速度和更低的成本。 PALASM ( PAL 汇编)软件设计工具也开发出了易于使用的设备。 License 与 AMD 、国家、 TI 一致将 20 针双极型器件( 16L8 , 16R8 等)确立为行业标准的产品。他们在特雷西基德的一台新机器的灵魂( 1981 年) ,成为一个时代的技术畅销特色。 AMD ( 22V10 )的一个更加灵活的架构 ,来自赛普拉斯和莱迪思的低功率 CMOS 技术,和可重复使用的 CMOS 为基础的 EPROM 器件支持 PC 兼容 Altera 设计原理图输入工具( 1983 年)扩大其应用范围。 赛灵思( 1984 ) ,爱特( 1985 ) , QuickLogic 公司( 1988 )介绍了现场可编程门阵列( FPGA )架构去服务更高的门数的应用。系统设计师选择了统称为 PLD (可编程逻辑器件) ( 1967 里程碑)作为这些用户可配置的首选解决方案超过了所有成本最低或最高性能的应用程序定制的数字逻辑的 ASIC 方法。 图二 MMI PAL16R8 型号的芯片照片 图三 涵盖首次 PAL 应用手册 “ ( 1978 ) 图四 特蕾西基德的普利策奖获奖书 译者:哈尔滨工业大学(威海)电子封装 090840225-石宇辰 校对: 原文 http://www.computerhistory.org/semiconductor/timeline/1978-PAL.html 版权 copyright by www.computerhistory.org ———————————————————————————————— 1978 - PAL User-Programmable Logic Devices Introduced John Birkner and H. T. Chua of Monolithic Memories develop easy-to-use programmable array logic (PAL) devices and tools for fast prototyping custom logic functions. Creative logic designers realized that small, fast PROMs ( 1971 Milestone ) could also be configured to perform simple logic functions. Based on a request from Honeywell, in 1975 Ron Cline adapted Signetics PROM circuit technology to design the 82S100 Programmable Logic Array (PLA) to serve more complex logic needs. A desired function, expressed as set of Boolean logic equations, was entered into a fuse programming unit that instantly generated a custom IC on the designer's desktop. John Birkner and H.T. Chua of Monolithic Memories worked with Andy Chan to introduce a more streamlined architecture they called Programmable Array Logic (PAL) in 1978 that traded logic flexibility for faster speed and lower cost. The PALASM (PAL Assembler) software design tool also made the devices easy to use. License agreements with AMD, National, and TI established the 20-pin bipolar devices (16L8, 16R8, etc) as industry standard products. They are featured in Tracey Kidder’s The Soul of a New Machine (1981), a technology bestseller of the era. A more versatile architecture from AMD (22V10), CMOS technology for lower power from Cypress and Lattice, and reusable CMOS EPROM-based devices supported by PC-compatible schematic-entry design tools from Altera (1983) expanded their range of applications. Xilinx (1984), Actel (1985), and QuickLogic (1988) introduced Field Programmable Gate Array (FPGA) architectures to serve higher gate-count applications. System designers selected one of these user-configurable solutions, collectively known as PLDs (Programmable Logic Devices), over ASIC approaches ( 1967 Milestone ) as the preferred approach to custom digital logic for all but the lowest cost or highest performance application.
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半导体里程_博物馆_1979 单芯片数字信号处理器出现
WanghuataoHIT 2012-3-5 09:03
半导体里程_博物馆_1979 单芯片数字信号处理器出现
贝尔实验室的单芯片DSP-1数字信号处理器设备构架进行了优化,为电子交换系统。 为了能从背景噪声中分离出信息,数字信号处理器( DSP )采用了数学技术来分析来自自然和电子源的模拟信号。转换成数字信号之后,如快速傅立叶变换等算法筛选和重建准备一个可用的模拟信号转换回数据。在音响,通信,图像,雷达,声纳,语音识别系统中,已经实施了 DSP 功能从电子管到集成电路的每一代技术。 在 1970 年,来自 Fairchild 公司( 9334 )和 AMD 公司( 2505 )的 2*4 乘法器作为第一代标准 IC 产品,加快了数学密集型信号处理运算。 TRW 公司的 LSI 产品采用三重扩散双极工艺,建立了更复杂的功能,如 AMD2901 位片在 20 世纪 70 年代后期的视频和国防应用的处理器一起使用的 16x16 乘法器( MPY16 )。 MOS 外围芯片允许信号处理使用通用的微处理器,包括用于摩托罗拉 6800 和英特尔 2920 ( 1979 )的 AMIS2811 ( 1978 ),并结合了可编程的数字信号处理和数据转换电路( 1968 年里程碑)。 单芯片 DSP本质上 是添加了复杂的数学能力的微处理器。贝尔实验室的单芯片 DSP-1 , AT & T 的 ESS 数字交换机的重要组成部分,诞生于 1979 年 5 月。 NEC 的 定点 μ PD7720 ,在 1980 年应用于语音频带,是商业上最成功的早期的 DSP 之一。 TI 的 16 位可编程 DSP 器件的 TMS320 系列从 1983 年开始应用于消费类产品中,从手机到玩具。从 TI 的 集成度更高的 DSP 的连续几代以及 ADI 公司,摩托罗拉,和别人的权力今天的手机,磁盘驱动器, HDTV 产品。 图一: 1979 年贝尔实验室的 DSP-1 设备布局 图二:: 1979 年 TRW 公司的高速乘法累加器的广告 图三::第一的 TMS320 可编程 DSP 器件的芯片的图片 图四::“电子设计”杂志关于 DSP 的专题文章 译者:哈尔滨工业大学(威海)电子封装 090840226-王延博 校对 :哈尔滨工业大学(威海)电子封装 090840216-鞠伯伦 http://www.computerhistory.org/semiconductor/timeline/1979-DSP.html 版权 copyright by www.computerhistory.org 原文 ——————————————————————--------------------------------------------------------------- 1979 - Single Chip Digital Signal Processor Introduced Bell Labs' single-chip DSP-1 Digital Signal Processor device architecture is optimized for electronic switching systems. Digital signal processing (DSP) applies mathematical techniques to analyze analog signals from natural and electronic sources in order to separate information from background noise. After conversion to digital form, algorithms such as the Fast Fourier Transform filter and reconstruct the data ready for conversion back to a useable analog signal. DSP capability has been implemented in every generation of technology from vacuum tubes to ICs in audio, communications, image, radar, sonar, and voice recognition systems. 2 x 4 multipliers from Fairchild (9334) and AMD (2505) in 1970 were among the first standard IC products to speed math-intensive signal-processing algorithms. TRW LSI Products used a triple-diffused bipolar process to build more complex functions, such as the 16x16 multiplier (MPY 16), used together with the AMD 2901 bit-slice processor for video and defense applications in the late-1970s. MOS peripheral chips to enable signal processing using general-purpose MPUs included the AMI S2811 (1978) for the Motorola 6800 and Intel’s 2920 (1979) that combined programmable digital processing and data conversion ( 1968 Milestone ) circuits. Single-chip DSPs are essentially MPUs with added complex math capabilities. Bell Labs’ one-chip DSP-1, a key component of ATT's ESS digital switch, appeared in May 1979. NEC's fixed-point 倀D7720, introduced in 1980 for voiceband applications, was one of the most commercially successful early DSPs. TI’s TMS 320 family of 16-bit programmable DSP devices from 1983 found wide application in consumer products from cell phones to toys. Successive generations of more highly integrated DSPs from TI as well as Analog Devices, Motorola, and others power today's mobile phones, disk drives, and HDTV products.
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分析试验数据要谨慎一些
孙学军 2012-1-27 12:24
http://www.springerlink.com/content/vt413114v8v63011/ 最近研究发现呼吸或通过饮水摄取氢气可以中和机体内的活性氧,如羟基自由基,从而通过降低氧化应激诱导的脑、心脏等器官损伤对各种疾病产生保护作用。这些研究认为外源性氢气会与自由基反应,从而被机体“利用”。本研究主要是评价饮用含氢气水后氢气被机体消耗的量。 7 名成年受试者饮用氢气水后,采用气相色谱半导体检测呼吸气体中氢气的含量。呼吸气体中氢气的水平饮水后 10 分钟迅速升高到 36 ppm 。然后迅速在 60 分钟内下降到正常水平,采用呼吸时间和浓度计算出氢气释放的总数量大概为吸收氢气的 59% 。试验过程中氢气的泄露大概 3% 以下。通过皮肤释放的氢气不到 0.1% 。因此大概有 40% 的氢气被保留在身体内。由于氢气属于弱还原剂量,只能和羟基自由基发生中和反应,因此可以推断身体内产生羟自由基的速度低于 1.0 μmol/min/m 2. 这个研究工作没有太多的研究证据,只根据一组人体呼吸气体氢气浓度的检测推断出身体内羟基自由基的产生速度。恐怕太大胆了。 本人提出质疑如下: 一、 氢气还原性弱,只能和羟基自由基反应,但不能排除羟基自由基和其他物质发生反应。氢气进入身体很难和比氢气还原性强的物质进行竞争。因此不能利用氢气被“消耗”的量来判断羟基自由基的产生速度。另外氢气也可能和其他活性强的自由基反应,也不能完全归因于羟基自由基。 二、 氢气摄取和释放应该符合气体运行规律,身体内不同组织溶解和释放氢气的速度完全不同。不同性质的组织溶解氢气的能力也不同。因此难以从整体上分析氢气的保留数量。身体的成分复杂,气体进入身体内,特别是少量气体,很容易被一些分子黏附,这些气体并不是被中和,而是长时间存在于身体内。这类似于把气体通入粘稠的液体中。气体只是物理隔离在液体中而已,并没有被利用。 三、 经过皮肤释放的数量可能不准确。氢气比其他气体分子量小,更容易扩散,更容易经过皮肤扩散。 四、 成年身体内本身存在一定数量的氢气,如何排除干扰。 五、 试验的设计太过简单,例如反复试验多次,看前面保留在身体的氢气是否会影响后来的氢气释放数量。应该设计不同的剂量,看不同剂量的释放和保留是否有规律。 六、 15 年前,有学者曾经用动物试验和氢同位素标记都没有证明氢气被身体利用。而现在采用的技术分辨率远低于同位素标记。竟然说有那么多氢气被利用。别说氢气,许多药物都很难被利用 40% 。而且氢气进入身体只有几分钟时间,更不可能被利用那么多。 总之,这个资料的唯一价值是测定氢气的释放规律。其他的判断和推测近乎荒唐。 Estimation of Molecular Hydrogen Consumption in the Human Whole Body After the Ingestion of Hydrogen-Rich Water Recent studies have revealed that inhaled or ingested hydrogen gas (H 2 ) inactivates reactive oxygen species such as hydroxyl radicals in various kinds of diseases and disorders in animal models and that H 2 reduces oxidative stress-induced damage in brain, heart, and other peripheral tissues. These reports suggested that exogenous H 2 is partially trapped by oxygen radicals. This study was conducted to evaluate H 2 consumption after the ingestion of H 2 -rich water. Seven adult subjects ingested H 2 -rich water. The H 2 content of their expired breath was measured by gas chromatography with a semiconductor. The ingestion of H 2 -rich water rapidly increased breath H 2 content to its maximal level of approximately 36 ppm at 10 min after ingestion and thereafter decreased it to the baseline level within 60 min. Taken together with simultaneous measurements of expiratory minute volume, 59% of the ingested H 2 was exhaled. The loss of H 2 from the water during the experimental procedures accounted for 3% or less of the H 2 . H 2 release from the skin surface was estimated as approximately 0.1%. Based on the remaining H 2 mass balance, approximately 40% of the ingested H 2 was consumed in the body. As the H 2 molecule is reported to be a weak scavenger of hydroxyl radicals and is not effective against superoxide or hydrogen peroxide, the rate of hydroxyl radical production was estimated to be at least 1.0 μmol/min/m 2 (equivalent to 29 nmol/min/kg), assuming that the H 2 molecules were all used to scavenge hydroxyl radicals and that bacterial consumption in the alimentary tract and on the skin surface could be excluded. In summary, 59% of ingested H 2 was exhaled, and most of the remainder was consumed in the body.
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[转载]我国半导体照明产业的创新报告
whyhoo 2012-1-10 19:50
对于西藏日喀则地区6个县42个村庄的很多村民来说,今年元旦与以往不同——8个月前这里装上的太阳能LED(发光二极管)路灯,为雪域高原节日的夜晚增添了光明。 大家还清晰记得,当这些少数民族无电村通电后,村民们高兴得夜晚在路灯下久久不愿离去…… 平均海拔4500米以上、最高达6000米;冻土层1米;最大日温差±32℃,零下30℃仍要正常工作,紫外线超强……高海拔、高温差气候对LED材料结构、封装技术、光色质量与驱动控制电源等都提出了极高要求。 如今,大半年过去,路灯亮灯率达100%。863计划“半导体照明工程”重大项目科研成果首次在西藏地区的示范应用,不仅交出了满意的答卷,同时也创造了世界上在海拔4500米以上地区集中安装数百套太阳能LED路灯的纪录。 LED,照亮漫漫天路,也照亮了中国。 8年时光荏苒,我国半导体照明产业从无到有,逐步发展壮大。目前制约产业转型升级的关键技术陆续取得突破,产业核心技术研发与创新能力快速提高,一条从上游外延芯片到中游器件封装,再到下游集成应用的较为完整的技术创新链和具备较强国际市场竞争力的产业链正在形成。 抢占先机,围绕产业需求部署研发 如今用于白光照明的LED器件是基于半导体氮化物材料制备的。这种LED器件的概念在上世纪60年代提出,但由于制备技术上的限制,一直发展缓慢,当时谁也没想到这种半导体材料可以用来照明。 “直到上世纪90年代初期,在日本科学家突破了低温缓冲层和P型掺杂两大难题后,可用于照明应用的氮化物蓝光LED才真正被制造出来,随后氮化物材料引发了国际上的研究热潮,产业应用也随之进入了快速发展阶段。”中科院半导体研究所所长李晋闽介绍说。 作为白炽灯、荧光灯之后的新型照明技术,LED具有其他传统照明光源不可比拟的应用优势,它具有耗电量少、寿命长、无汞污染、色彩丰富、可调控性强等特点,呈现出强大的生命力和极快的发展速度,被称为照明光源及光产业的一次革命。半导体照明也被普遍认为是21世纪最具发展潜力的战略性新兴产业。美国、欧盟、日本、韩国等发达国家近10年来纷纷立足国家战略推动半导体照明技术研发和产业发展。 但在8年前,中国半导体照明上游产业发展几乎是一片空白,下游应用刚刚起步,功率芯片全部依赖进口,企业规模小、缺乏产业化技术,整个产业销售收入不足百亿元。 为抢占新兴产业的先机,提高新一代半导体材料与技术的国际竞争力,从“十五”开始,科技部率先支持半导体照明技术和产业的发展。2003年,科技部、原信产部、中科院、教育部、原建设部、轻工业联合会等联合成立了国家半导体照明工程协调领导小组,并紧急启动“国家半导体照明工程”,通过科技攻关计划等项目部署,以近期解决特殊照明市场急需的产业化关键技术,中远期培育白光普通照明产业为目标,以应用促发展,推动形成有核心竞争力的中国半导体照明产业。 谈到技术研发,李晋闽有着更深的理解:“我们发展科技,过去大多走的是从前期自由探索到基础研究再到应用研究,最后到工程化工业化的路径。”但在李晋闽看来,这对半导体照明领域而言并非完全适用。“不仅仅是技术推动产业发展,事实上,市场应用和产业的迫切需求,强有力地驱动半导体照明技术不断进步。” 他多次用“日新月异”来形容半导体照明技术研发和产业发展态势。“在这个行业领域,更新变化的周期是3个月甚至1个月,每个月都有新的东西出现,既有新的技术、新的研发成果,也有新的产品、新的应用。”人们不断追求更高的光效、更舒适的照明体验,这种消费需求和国际同行在技术研发的激烈竞争,让包括李晋闽在内的科研人员感受到前所未有的挑战。 因此,在国家科技计划设计之初,就充分考虑了产业和市场的需求,以突破部分核心关键技术,促进上下游实质性合作为目标,按照产业链来部署技术创新的各个环节。“当时科研项目的设计和组织都经过了深入企业充分调研,项目设计与产业迫切需求紧密结合,非常贴合企业发展的方向,更是面向国民经济发展的主战场。”国家半导体照明工程研发及产业联盟秘书长吴玲回忆。 2006年8月,科技部在“十五”国家半导体照明工程实施的基础上,根据《国家中长期科学和技术发展规划纲要》的部署和“十一五”科技发展规划,在“十一五”国家863计划新材料领域中设立“半导体照明工程”重大项目,目标是通过自主创新,突破白光照明部分核心专利,解决半导体照明市场急需的产业化共性关键技术,完善半导体照明产业链。 与此同时,科技部推动构建的国家半导体照明工程研发及产业联盟的行业凝聚力和影响力逐步扩大。2009年,为形成紧密的技术创新链,在联盟常务理事单位的基础上,在科技部政策法规司指导下组建了半导体照明产业技术创新战略联盟。 重点攻关,技术水平基本与国际同步 在科技攻关计划、863计划、科技支撑计划等国家科技计划和相关部门政策的支持下,我国半导体照明技术和产业发展步入快行线,已成为全球发展最快的区域之一。 “目前,我国半导体照明技术基本实现与国际同步发展,示范应用处于国际先进水平。”李晋闽评价我国的研发水平认为,在基础研究方面,我国研发水平和方向与国际基本保持同步,甚至某些方面超前;在成果转移转化方面,我国产业关键技术取得突破,基本与国际同步。 李晋闽做此判断的依据是,“十一五”期间,在863计划的支持下,我国产业化大功率LED芯片光效超过100流明/瓦,与国际产业主流产品水平同步。 此外,在经历了买芯片、买外延片的道路之后,我国已经实现自主生产外延片和芯片,国产芯片进口替代比例逐年上升,2011年达68%,半导体照明整体产业规模达到1500多亿元。 据中科院半导体照明研发中心副主任王军喜介绍,我国还在硅衬底LED芯片产业化、紫外短波长LED、MOCVD重大装备、功率型白光LED封装水平等方面取得突破。如在国际上首次推出具有自主知识产权的硅衬底LED芯片,光效超过90流明/瓦,已实现产业化;我国深紫外LED器件的研发处于国际领先水平;功率型白光LED封装光效达到130流明/瓦,接近国际先进水平。 我国在半导体照明领域申请的专利数量近年上升很快,与国际基本同步。2010年,我国LED相关专利申请超过30000项,约占全球LED专利申请数量的三成,2001—2009年平均增长率33%,明显高于全球平均水平;而且下游应用专利申请优势明显,应用方面专利超过总数的70%,其中道路等功能性照明应用领域处于国际领先地位。 搭建平台,提升行业共性技术水平 车辆行驶在北京海淀区林大北路上,一不留神,很容易就会错过湮没在一片住宅小区里的中科院半导体研究所。进入大门,一路往南走到尽头,会看到一幢三层实验楼。代表着业内最高水准的研发平台——中科院半导体照明研发中心就藏身于此。 研发中心的实验室对洁净度有着极高的要求。除了露出一双眼睛,记者全身从头到脚全副武装,经过风淋室才得以步入,一探究竟。 在研发人员的带领下,记者看到了从外延材料制备到芯片研发和切割,再到灯具封装、性能测试分析一条完整的工艺线,大致了解了从原始材料制备到最后生产出半导体照明产品的全过程。 “我们的研发工作涉及半导体照明产业上中下游各个环节。实验室拥有从衬底材料、MOCVD外延、装备制造、芯片开发、高效大功率封装到测试分析较完整的工艺线。打造产业共性技术研发平台是我们努力的方向。”王军喜说。 在该中心硬件平台基础上,广受各界关注的半导体照明联合创新国家重点实验室的筹建工作也在紧锣密鼓地进行。该国家重点实验室由半导体照明产业技术创新战略联盟牵头,国内外5家研究机构共同发起,22家企业参与。 去年8月,重点实验室实施方案通过论证,在进行了数月调研,广泛了解企业需求后,凝练出4个方向的研究课题,并立马着手实施。尽管还在筹建阶段,但相关科研工作已经在2011年10月正式启动。 对于凝练出的4个研究方向,国家半导体照明工程研发及产业联盟常务副秘书长阮军逐一进行了介绍,统一半导体照明产品规格接口,制定相关标准,实现不同厂家产品具备互换性;研究半导体照明产品可靠性测试方法,科学评价半导体照明产品各项性能指标;对半导体照明产品封装工艺进行研究,解决照明舒适安全问题;开展前瞻性研究,对代表未来发展方向的三维封装、立体封装进行研究,以降低产品成本。 “这些课题也代表了半导体照明产业目前所急需突破的共性技术。”李晋闽说。目前,重点实验室各项工作进展速度比预想的还要快,对于未来的发展,李晋闽显得非常乐观。“目前研究刚刚开始,半年以后,也就是今年五六月,相信企业将能切实感受到实验室对推动行业共性技术进步所起到的效果,希望你们能继续跟踪。” 虽然通过“十一五”期间的快速发展,半导体照明技术取得了重大进展,但面对激烈的国际竞争,挑战依然严峻。据悉,“十二五”期间,科技部将通过系统布局,建设共性技术研发平台,集中资源,计划到2015年,实现从基础研究、前沿技术、应用技术到产业化示范全创新链的重点技术突破。 上至大飞机,下至汽车光测距,远至南极科考,近至医疗美容、植物照明……“半导体照明技术的出现,不仅使百年传统照明工业迎来了电子化大规模的数字技术时代,而且应用涉及到信息、交通、医疗、农业等领域,其数字化的特性是即将到来的物联网时代的技术支撑之一。”阮军说。 在国家研发投入的持续支持和政府的规范引导下,在技术进步和市场需求双重推动下,中国的半导体照明技术和产业正在与时间赛跑! 半导体照明是技术进步的产物,也是技术进步的表现。作为第三代半导体材料制作的光源和显示器件,它具有耗电量少、寿命长、无污染、色彩丰富、可控性强等特点,被照明行业普遍视作具有革命性意义的新一代光源。 发展半导体照明产业正当其时 半导体照明的技术特点使它在节能减排方面具备无限潜力。据测算,目前我国照明用电占能源消耗的6%,并以每年超过5%的速度增长。在节能减排压力日益增大的情况下,照明行业急需运用更加节能高效的照明光源和技术,而高效率、低污染的半导体照明技术无疑是促成这场技术变革的不二之选。它的运用不仅能大幅降低使用过程中的能源消耗,而且由于产品中不含汞和有害气体,能将制造过程中的污染几乎降至最低。据专家测算,2015年我国LED通用照明占有率将超过30%,景观装饰等产品市场占有率超过90%,可实现年节电超过1000亿度,相当于用新技术再造一座三峡发电站。 半导体照明技术的运用还将推动信息、交通、医疗、农业等领域的发展和变革。以物联网为例,半导体照明技术将引领人类照明进入数字化时代,并成为支撑物联网时代的重要技术,为人类生产、生活方式带来更大变化。美国能源部桑地亚国家实验室的一篇论文显示,照明占全球能源消耗的8.9%,但对GDP的贡献率不足1%。如果采用半导体照明技术,2050年的照明用电量将维持2005年的水平,对GDP贡献率将翻两番以上。 正是基于半导体照明技术的这些特点,它被认为是21世纪最具发展潜力的战略性新兴产业。世界多数国家都将半导体照明技术作为下一步发展的重点。我国处在产业升级、调整结构的重要节点,半导体照明产业同样是推进低碳经济、转变经济发展方式的重要机遇。 自“十五”起,科技部先后通过科技攻关计划、863计划、科技支撑计划等国家科技计划,持续支持了半导体照明的技术创新和产业发展。2009年科技部又启动了“十城万盏”半导体照明应用工程试点工作,通过在37个试点城市推进半导体照明技术应用,推动了技术集成和创新应用,促进了市场机制和商业模式的形成,为我国从照明大国跻身全球照明强国、占据技术和产业发展的国际制高点提供了坚实基础。 人民大会堂的主体建筑万人大礼堂顶部中央,巨型红色五星灯和环绕在它周围的数百盏满天星灯,令人过目难忘。相较之下,主席台上的顶灯或许就不那么抢眼了,事实上,这160盏灯可不一般,它们是去年全国“两会”前刚“上岗”的LED灯。 尽管“年轻”,比起前任的白炽灯,这160盏LED灯表现却更加出色。经测试,目前主席台平均照度较改造前提高约40%,照明总功率由160千瓦降低到40千瓦,能耗下降了70%。同时,LED灯具外壳表面温度最高为45℃,原灯具外壳最高温度为80℃,主席台环境温度明显改善,开会的人不再有“被加热”的难受感觉了。 这一切让参与万人大礼堂半导体照明节能示范改造工作的阮军倍感自豪。“不同于一般场所的应用,人民大会堂使用LED灯无疑具有‘风向标’的意义,既是政府对节能环保理念的重视和身体力行的体现,也是对LED产业的一种肯定和鼓励。” 作为国家半导体照明工程研发及产业联盟(简称联盟)常务副秘书长,阮军参与了包括“十城万盏”在内的多项半导体照明示范工程的组织工作。从2008年北京奥运会到2010年上海世博会,LED都大放异彩,给人们留下了深刻的记忆。 在示范工程的带动下,我国半导体照明产业发展迅猛。据联盟统计,2011年,国内半导体照明产业的产值为1560亿元,年增长率达30%;LED灯具的产量为1.8亿盏,2010年为1亿盏;LED灯具的市场渗透率接近1%,2010年仅为0.5%。预计到2015年,LED照明的渗透率将超过25%,行业总产值将达5000亿元。 “十城万盏”,点亮照明新兴产业 和如今的广受热捧相比,萌芽阶段的半导体照明产业成长显得更加艰难。“8年前,没人看好LED照明产业前景,尤其是做传统照明的人对这项新技术的成熟度提出很多质疑,居高不下的成本也是障碍。”阮军回忆道。 随着全球半导体照明节能产业发展迅猛,技术突破日新月异,应用领域不断拓宽,我国政府高度重视半导体照明技术创新与产业发展,制定了一系列相关政策和计划,支持半导体照明战略性新兴产业的发展。半导体照明被纳入国家中长期科技发展规划纲要能源领域“工业节能”优先主题(“高效节能、长寿命的半导体照明产品”)。 受国际金融危机影响,2009年,我国外贸出口及一些传统工业产值出现大幅下滑。在《国务院关于发挥科技支撑作用促进经济平稳较快发展的意见》(国发 9号)文件中,半导体照明也被列入加快推广扩大内需的产品。2009年4月,科技部启动“十城万盏”半导体照明应用工程试点工作,分两批批复了37个“十城万盏”试点城市,以应用促发展,积极引导和培育半导体照明应用市场。 2010年10月,《国务院关于加快培育和发展战略性新兴产业的决定》明确将半导体照明材料列为新材料产业的发展重点。 对于半导体照明产业而言,这无疑是一次难得的历史机遇。在“十城万盏”的带动下,试点城市地方政府纷纷将半导体照明作为调整区域产业结构、转变经济发展方式的重要抓手,努力培育和发展半导体照明新兴产业。 对首批21个“十城万盏”试点城市半导体照明产业的进展情况,联盟密切关注,在2010年7月组织了为期一个多月的实地调研。报告显示,在金融危机背景下,我国半导体照明产业逆势上扬,行业产值由2008年的700多亿元增加到2009年的827亿元,21个试点城市就集中了2000多家相关企业,初步呈现产业集聚效应。厦门、上海、东莞等地都形成了相对完整的产业链。 随着“十城万盏”试点工作的实施,许多传统照明企业纷纷进入半导体照明领域,拉开了产业转型与升级的大幕。宁波是我国照明产业的聚集地,2010年当地超过4000家的传统照明企业中,有近1/3的企业已经或计划向半导体照明产业转型。一些传统照明领域的上市企业也投入巨资转入LED的研发和生产。总部在惠州的雷士照明,2010年成立上海研发中心,并组建LED研发小组,对LED光源、灯具、驱动电源进行研究。 “十城万盏”昔日所点亮的星星之火,如今已渐成燎原之势。2011年末,科技部、住房和城乡建设部在广州联合召开“十城万盏”试点工作现场会,会上发布的数据显示,目前37个试点城市已实施的示范工程超过2000项,应用的LED灯具超过420万盏,年节电超过4亿度。试点城市集中了近4500家半导体照明企业,总产值达到约1400亿元。 示范应用,需求引导技术进步 几年来,为促进半导体照明产业壮大和集聚,“十城万盏”试点工作所做的努力有目共睹。“有些地方执行方式很好,有些地方还不尽如人意,但有一点很明显,LED技术经过几年推广,逐渐成熟了。”联盟秘书长吴玲说道。 对此,阮军也深有同感:“中国太大,各地情况不一,在使用过程中也逐渐暴露出LED产品还存在的一些技术问题。比如一些产品过去没有在户外使用过,发现它在控制、防雷击等方面还需要改进,这也是个好事情。技术或产品就是要在应用中不断改进完善。” 随着“十城万盏”试点工作的推进,半导体照明产品在复杂现实条件下的应用需求,牵引着相关技术的不断提升。据介绍,各试点城市不断加大对半导体照明的科技投入,加强对系统集成技术的研发,技术进步速度明显加快。早期的一些关键技术问题,通过光学设计、散热、驱动等技术集成得到解决,国产功率型LED芯片已在部分支干道路照明和室内筒灯、射灯照明上得到应用。 在示范应用强有力的驱动下,我国半导体照明技术从上游芯片到中游封装,再到下游应用都取得了一系列突破。阮军介绍,我国芯片国产化率从2008年的29%上升到2011年的68%;大功率芯片产业化光效达到120流明/瓦;具有自主知识产权的硅衬底功率型芯片产业化光效达到100流明/瓦;功率型白光半导体照明封装接近国际先进水平;下游应用与国际技术水平基本同步,室内外功能性照明灯具光效已超过80流明/瓦;国产芯片、器件与控制系统集成应用于新中国成立60周年天安门广场大屏幕和“复兴之路”演出大屏幕。 试点城市结合区域产业特色和重点工程建设,促进了半导体照明产品集成创新与示范应用,涌现了一批具有特色的示范工程项目,有效提高了社会认知度。上海世博园区LED芯片用量约10.3亿个,“一轴四馆”乃至整个园区绚丽多变的夜景灯光向世界展示了半导体照明的璀璨前景。此外,“十城万盏”已不仅仅代表LED路灯的概念,LED正在向商业化照明、专业照明领域、健康和文化渗透,应用领域越来越广泛;企业和用户也不再仅仅关注LED产品本身,而更加注重LED照明系统整体解决方案的设计,不断拓展LED技术在农业、医疗等领域的创新应用,培育新兴市场。 积极探索,形成多种推广模式 目前,半导体照明产业尚未成熟,功能性照明处在启动阶段,市场环境亟待完善,大部分试点城市采取了以政府推动为主、市场导向为辅的模式。同时,多数试点城市对商业推广模式进行了积极探索。 吴玲介绍,目前的探索主要集中在合同能源管理(EMC)、建设—移交(BT)、建设—运营—移交(BOT)等模式上。试点城市已经实施的示范工程中约有160余项采用EMC模式实施,约占总数的8%;BT、BOT模式约占7%。 东莞市鼓励运用EMC模式,即在企业主动参与下,积极引进商业银行、投资基金、合同能源管理投资公司参与示范工程,组织常平等镇、街采用EMC模式推广LED路灯;深圳市蛇口工业区道路照明节能改造项目,采取自我担保的EMC方式运作;成都市则采取“以路养路、节电返还”模式,并尝试采用清洁发展机制。 广州在市政道路推广应用LED路灯的过程中,引入市场化竞争机制,在EMC模式的基础上探索了一种新合同能源管理模式(N-EMC)。所谓N-EMC模式,即由广州市政府直接授权给广州市城投集团公司,由市城投集团公司成立专门的城投环境能源投资公司,通过公开招标引入有实力的专业LED厂商合作进行路灯节能改造。 阮军认为,N-EMC模式的亮点在于保证政府、LED企业、节能服务企业和金融机构各方利益合理平衡的同时,通过开放、竞争的市场保障LED照明产品的质量,使真正有实力的企业在竞争中脱颖而出。 在“十城万盏”试点工作现场会上,科技部部长万钢对广州、潍坊等地在商业推广模式上的探索表示了肯定。他指出,两年多来,“十城万盏”试点工作迈出了坚实的步伐,取得了瞩目成绩,今后尤其要进一步健全相关政策措施和协调机制,研究发布推广EMC等商业模式的指导意见,依托半导体照明工程研发及产业联盟,制订EMC推荐合同模板、合格节能服务商目录,以及产品技术规范、推荐产品目录、供应商目录等;同时还将不断加强质量保障体系建设和工程评估评价。 “十城万盏”的实施,还吸引了大量海内外资本进入国内市场,台湾地区和外企在大陆的投资显著增加。据联盟统计,目前全球前十大主要LED企业均在我国大陆设有市场推广中心,其中6家建设了LED生产基地,2家建有传统照明生产基地及LED合作生产基地;我国台湾地区的LED企业在大陆设厂已超过30家,涵盖LED上中下游各个环节。 在“引进来”的同时,我国半导体照明技术的应用和推广也在积极地“走出去”。在“中非科技伙伴计划”框架下,联盟积极推动中非半导体照明合作,已组织完成肯尼亚科技部与肯雅塔国际会议中心首期示范工程建设工作,与肯尼亚理工大学合作建设照明中心的工作正在顺利推进中。作为世行/国际金融公司“照亮非洲”项目中国唯一合作机构,联盟积极推动50多家国内企业参与了该项目。以前,远在肯尼亚的居民为高昂的电费和经常断电停电的生活所苦恼,但现在通过在当地的离网半导体照明(太阳能LED)示范,中国的半导体照明技术和LED灯具正漂洋过海,为渴望光明的人们点亮夜空!(记者 唐婷 陈磊) 原文见 http://www.most.gov.cn/kjbgz/201201/t20120110_91843.htm
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[译转]有机半导体晶体管-Strain Speeds Organic Transistor
feiyou 2011-12-22 08:03
有机半导体具有可溶解于溶剂的特殊性质,可以像墨水一样被印刷在柔性的塑性材料上,从而制造出大量的便宜可靠的电路来。但一直以来,有机晶体管的载流子迁移率远远低于Si晶体,使得其应用受到极大的限制。因此如何提高其载流子迁移率成为一个重要课题。 斯坦福大学的 Zhenan Bao 团队,应用了在Si晶体制造工艺中常用的拉伸方法,朝一个方向拉伸有机半导体的晶格并固定下来。实验的结果表明,在特定的拉伸速度下,其载流子迁移率提高成当前最好有机半导体的4倍,这被认为是一个振奋人心的消息,虽然该速率仍仅为Si晶体中的1%,其为有机半导体实现更便宜的印刷电路,可以在显示器方面替代非晶硅(amorphous silicon),以制造更为便宜的3D塑性电视。 该团队采用的有机半导体为 TIPS-pentacene (并五苯),这是一种p型半导体,常规的来讲分子之间距离较远,空穴或电子空位的跳跃较为困难,使得载流子迁移率较低。研究的思路就是将分子聚集得更紧凑一些。最初采用施加张力的拉伸尝试并不能使得分子保持最后的位置,因为有机半导体分子之间的作用力比Si晶体中要弱许多。最后采用的方法,是先将并五苯溶解,维持一定的温度放置在介质的上方,然后用一个板子以特定的角度保持恒定的速率从介质表面一定距离处刷过去,该方法拉伸了分子,并使得溶剂挥发,最后得到了想要的结果和上述性质。 通过拉伸后的光学显微照片如下图所示,可以看到不同的速率会导致不同的薄膜张力和结晶结构(crystalline texture),其中有的结构就可以带来较大的迁移率改善。 Image: Gaurav Giri/Stanford University Quicker Crystals: An optical microscopy image of an organic semiconductor shows that shearing at different speeds caused different crystalline texture and degrees of strain in the film. Just the right amount of strain made charge move a lot faster through the film. Click on image to enlarge.
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半导体 Semiconductor
zjzhang 2011-12-15 12:03
半导体:材料的电阻率界于金属与绝缘材料(电介质)之间的材料。这种材料在某个温度范围内随温度升高而增加电荷载流子的浓度,电阻率下降。
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兵团故事——半导体
热度 10 lujiangxiao 2011-12-12 07:11
兵团故事——半导体
几年前的旧文, 网上不好找了, 重贴在这里吧. ---------------------- 兵团故事----半导体 --- 小炉匠 四十年前的北大荒,我们建设兵团的连队没有电。报纸总是晚一两周送达。我们唯一的外界信息来源就是半导体收音机。在东北漫长的冬夜里,围着如豆的油灯,小黑盒子从茫茫以太中传来清晰的声音,时时提醒着我们,眼前的黑暗和寒冷都是暂时的,外面有一个光明温暖,发展了几千年的文明世界。 Oh, we were young and innocent! 黑龙江地处边陲,那时除了中央一台和黑龙江省电台,另外空中信号嘹亮的只有一串“敌台”。能收到的计有苏联的华语广播,美国之音的华语广播,日本的NHK华语广播,外加许多英语,俄语,朝鲜语的电台等。中央台和黑龙江台新闻是一样的,娱乐节目也是千篇一律的样板戏。记得当时的主要新闻常常是周总理迎接诺罗敦•西哈努克亲王的消息,一会儿“出国”一会儿“回国”。结合报纸上同样的新闻,连农场干部都搞不清谁是谁了,在给我们做时事报告时说柬莆寨抗美前线上的三位亲王,诺罗敦,西哈和努克团结的象一个人似的,到中国从来都一起来一起走。 敌台的宣传也常说不到点子上,大概是主要节目都被有效的干扰掉了。记得一次在强大的干扰噪声中“漏出”一小段宗教节目,说,“人类可以造喷射飞机,但却不能造一只小鸟儿;人类可以造万吨巨轮,但却不能造一条小鱼。为什么呢?因为生命是主给的。。。” 那么多年的革命教育使我们对这种宗教宣传一点也不感冒,但对女播音员那娇滴滴的港味国语却倍感亲切。一群荷尔蒙旺盛的臭小子屏着呼吸,目光贼亮地围着那个半导体,仿佛那美人儿马上要活了。 那时一台半导体还是要用多年积蓄才能买的,好的还要用 “工业卷”。半导体收音机经常出毛病,小毛病大家都自己修,拍拍敲敲凑和着用。大毛病是无论怎么拍敲都没反应的,只好来求炉匠这样的行家啦。炉匠从没认字的时候就开始鼓捣半导体,什么“六管机” ,“八管机” 的线路倒背如流,闭着眼都能听出毛病。到这儿可真有了大显身手的机会。我修的第一台半导体来自女生班,是因为连里别的高人都修不好了,才辗转到了我手里。打开一看是电池流汤,流到喇叭上,把音圈的引线腐蚀断了,难怪一声也不吭。于是用小刀把断线两端刮刮搭在一起,再用煤油炉烧热烙铁哧的一焊,就修好了。刚送回去女生们立马又送来一台。那是一位女生因精神受了刺激,打开半导体的后盖把里面扯成一堆破烂。谁都认为不行了,把一堆零件收敛在一盒里给我碰碰运气。我又给修好了。从此咱小炉匠的名声大震,心安理得地享受着女生们崇敬的眼光,  瞧瞧那时的姑娘 周围的老乡们都把半导体送到我这儿,就象现在看病要找名家一样。除了日常的修理,老乡们往往还有一些怪怪的要求,如把两台坏的半导体拼成一台好的等 等。老乡们不懂线路,但这要求倒是满有创意的。那位老乡早年买了一台木壳的 “再生式”三管机,虽然只能收两个台,但声音宏亮。后来又买了一个更先进的“六管超外差式”,台虽然很多但喇叭太小不好听,用五号电池也挺贵,不经济。于 是就求我把两台拚成一台,用大电池,大喇叭,台多声音也好。对这种要求我也能尽量满足。后来外连队的人也请我去或托人捎来修。来了后先请师傅吃饭喝酒,北 大荒老乡热情客气,酒喝少了不答应。有一次喝醉了,躺在人家热炕上睡到天黑,机器也没修就匆匆赶紧回去了。 最让俺得意的事是一年春耕时,机车柴油供应紧张,连里严格禁止使用煤油炉。连里的执法队收缴了一大批煮面条的煤油炉。却唯一开了两个例外,一台是卫生员煮注射器消毒用的,另一台便是咱炉匠修半导体烧火烙铁用的。 过了两年,我们都长大了,也就把修半导体的业务扩展成玩半导体。我当时最大的愿望就是做成一台无线电话,实现连队间的无线通讯。比如机车在野外陷在沼泽地里,如有无线电话就可以联系另一台车去拖。这样就不必在漆黑的夜里深一脚浅一脚地走到另一台车作业的地块。另外夜里连里有事情,有了电话就可立刻通知住在 2-3里外家属区的连长,不必再派人骑马去找。 有了些想法就找时间干起来。反正冬天漫漫长夜,不打扑克的我也无所事事。我的第一台试验机是用半导体收音机改成的。用它的喇叭当作麦克风,把其中的放大线路反过来,放大喇叭收到的信号,再用前级的晶体管搭成发射线路,从天线线圈中发射出去。我刚一改好就获得很大成功,邻居们的半导体都一下发现了这个新的电台。我的那些哥儿们本来已经闲的发疯,有了这么一个好玩具,谁都抢在手里不撒开。那“小电台”还没等完全做好就离了我手。他们把它架在一个屋里,让一个哥儿们吹口琴,其他的人就可以在别的屋里享受苏联“黄歌”了。在听了几十遍、几百遍样板戏后,听听口琴独奏的喀秋沙,山楂树还真是一种享受。那些哥儿们是很有创造天才的。一天早上,在连长来布置工作之前,大家都躲出去了,屋里只留下了一台开着的半导体。连长进得门来,正对着空无一人的屋子发愣。突然听到炕上被垛后面传来人声骂他“王老皮,X你妈,你这狗崽子,大王八蛋。。。”等等,不堪入耳原汁原味的东北腔骂人话。老皮一下子急眼了,以为谁躲在被垛里面,跳上炕就踹,却是空的,声音也不见了。他跳下炕,正在纳闷,骂声再度响起。他最后把被垛刨开,才发现了那台半导体。几个混小子早笑得叉了气。大家就如法炮制,没几天就用同样的恶作剧把连里的机务排长,司务长等等老职工都搞了一遍。大家一致认同了这个“高科技”。机务排长还在营里大会上夸下海口,要在夏收时实现机车间的无线通讯。那时连长坐阵指挥,就能对各地块中的拖拉机和康佰因的情况了如指掌。这不但在全营,就是在全团,全建设兵团也是高科技呀。 可啥科技一搞大跃进就注定要破产。正当小炉匠踌躇满志,准备使用连队特批的煤油炉大干一场的时候,意想不到的困难发生了。半导体收音机的晶体管功率太小,发射距离不到百米。一离开宿舍区,信号就淹没在噪声中了。这晶体管可不是炉匠铺能造的。那时就是在北京,街上也是买不到高频大功率晶体管的。那是军用物资不用说了,真做出发射机来还有“里通外国” 的嫌疑。 千方百计才搞来两个“中功率”管,有800毫瓦左右,为让这来之不易的功率管大显神威,炉匠使出了全身解数。管壳上戴上了铜片做的散热片,必要时还要让一个哥儿们从屋外取回冰块,让管壳化冰散热。天线也要调到最佳,让它把晶体管产生的高频能量全部发射出去。所有办法都用到了,在试验那天,一个哥们把半导体捂在一个耳朵上,顶着早春刺骨的寒风向荒原深处走去。每走几十米,我们就向发射机喊一句,他若听到了就挥挥手。他一步步地远去,变成了一个小黑点,最后终于停住了,通讯的距离达到600米左右。我们测试了一下最佳的发射功率,在天线旁竟可以点亮手电筒的小灯泡,看来至少有500毫瓦。 幸亏我们没有能力继续提高发射功率。不久,传来谣言说要是发射功率能达到一瓦,就会被附近的边防军收到,那麻烦可就大了。牛叉哄哄的“连长坐阵,无线电指挥计划”终于无疾而终了。 三十年后,亘古荒原已经变成旅游的景点,在风景秀丽的五大莲池旁边,新新人类们掏出精巧的手机,轻而易举地和北京甚至地球另一面的亲友通话。没有人知道,在那层层的黑土之下的连队废墟,埋藏着一个锈迹斑斑的半导体,它的线路已被改过,成为发射范围百米的小电台。 初稿于2006年,2009年一月首发于####
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[转载]跟毛主席学电子,文革中的 《晶体管脉冲数字电路》
dongzg101 2011-11-27 10:48
跟毛主席学电子,文革中的《晶体管脉冲数字电路》 已有 242 次阅读 2011-11-25 19:16 | 个人分类: 教育与未来 | 系统分类: 教学心得 | 关键词:晶体管 电子 毛主席 教科书 分析法 文革期间的有的教科书比现在的好,道理讲得清楚,利用矛盾分析法。 从读者的角度考虑。理论联系实际。这些我们现在评价国外教科书的评语 放在《晶体管脉冲数字电路》是贴切的。 现在教科书恶劣的文风是从什么时候开始的? 晶体管脉冲数字电路+上册+323页+4.5M.pdf
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[转载]mobility edge 迁移率边
handyme 2011-11-23 15:58
在晶体中,由于晶格具有周期性,即平移对称性,在单电子近似下,晶态半导体中运动着的电子可以用布洛赫函数来描述,即 ψ k (r)=u k (r)·exp(i k ·r) 其中,u k (r)是具有晶格周期性的函数,k为共有化运动的波矢量。波函数是布洛赫函数意味着电子在晶体各个原胞中出现的几率是相同的,也就是说电子可以在整个晶体内运动。因此,称这时的电子态为 扩展态 ——波函数延伸到整个晶体中。 对于非晶态半导体,由于没有结构上的长程有序性,对运动着的电子势必产生强烈的散射作用,因此,波函数就不再具有布洛赫函数的形式。如果这种散射作用很强,则将发生一种新的现象,即对于某一给定的能量E(这时波矢k已失去了意义),所有的波函数都是定域的(或叫局域的)。其物理图像是每个波函数 ψ E (r)被限制在空间的一个小区域内。 随着距离r的增加,波函数呈指数衰减 。 ψ E (r)~exp(- α·r ) 这种现象是1958年P.W.Anderson在他关于“Absence of Diffusion in Certain Random Lattices”的理论性论文中首先提出来的。因此这种定域化也称为 Anderson定域化 。 若以E m 和E n 分别表示n格点和与n格点最邻近的m格点的原子轨道能量,则能量差值越大,越难实现相邻格点间电子态的转移,亦即越易出现定域态。因此,定域态的是否出现,取决于比值(Em-En)/V(V为相邻格点的交叠积分),比值越大,越有利于定域态的形成。因此,W越大,不同格点上电子态的能量分散程度越大,(Em-En)也越大,顾客认为(Em-En)正比于W。由此可得比值W/V越大,对电子定域态的形成越为有利。Anderson证明,当W/V达到某个临界值(W/V) c 时,整个能带中的所有态都变成定域态。 Mott的进一步研究指出,当无序程度没有达到临界值时,虽然能带中部的态仍保持为扩展态,但在带顶和带底等能带尾部的状态亦可以发生定域化,产生一个有定域态组成的能带尾。Ec与Ec'表示能带中扩展态与尾部定域态的交界处的临界能量。计算结果表明,随着无序程序的增加,定域态与扩展态的交界处向能带中部移动,Ec与Ec'相互接近,最后相遇于能带中部,整个能带中的态都变为定域态。Mott还特别提出, 对于能量在定域态范围的电子,在T=0K时的电子迁移率为0,当能量改变通过Ec或Ec'进入扩展态时,电子迁移率突增至一个有限值 。因此他把能带中扩展态与定域态的交界处Ec和Ec'称作 迁移率边 。在T ≠ 0K时,定域态中的电子可以通过与非晶格子的相互作用而进行跳跃式导电,其迁移率不为零,但与扩散态中的迁移率相比要小得多。因而,当体系的费米能级E F 处于带尾定域态范围时,只有通过热激发从定域态跃迁到迁移率边以上的能带才能产生导电性能,导电性表现为非金属性的。如果由于某种原因使费米能级进入扩展态区,则处于扩展态中的电子将可像金属中电子那样导电,导电性表现为金属性的。这种当费米能级E F 通过迁移率边从定域态进入扩散态的时候发生的从非金属到金属型的导电性的转变称作 Anderson转变 。迁移率边是一个非常重要的概念。但是由实验来观察迁移率边的存在是困难的,只是有些实验可以用迁移率边的假定来加以说明。Mott还进一步认为在迁移率边的金属一边,电导率不是连续地降为零,而是降到一个有限的最小值,称作最小金属化 电导率 σ min 。
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