博文
X射线晶体截断面倒易杆技术CTR揭示生长气压对薄膜界面扩散的作用
||||
我认为这是一篇薄膜生长技术方面的重要工作：我们用X射线晶体截断面倒易杆技术（crystal truncation rod，CTR）研究了LaAlO3/SrTiO3 (LAO/STO)界面原子结构随生长气压的变化关系，发现高气压下生长的一个单胞厚的薄膜就能有效阻挡后续沉积原子的注入扩散行为，促进外延薄膜的制备。
原文见下面链接及其supplemental materials
Atomic Layer Engineering of Perovskite Oxides for Chemically Sharp Heterointerfaces
ADVANCED MATERIALS, 24, 6423-6428(2012)
DOI: 10.1002/adma.201202691
https://m.sciencenet.cn/blog-64513-799023.html
上一篇：掠入射衍射grazing incidence x-raydiffractionGIXD研究薄膜应变
下一篇：材料基因组？组合材料学？组合与高通量实验方法？
