博文
2021年东京电子株式会社的日本局专利状况——重点布局半导体制造、材料化学与纳米、电热与等离子体技术
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█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
第四部分 2021年日本发明专利统计分析报告
36 世界主要机构的日本专利布局
36.48 东京电子株式会社的日本专利状况
2021年，东京电子株式会社（日本企业，主营电子和半导体，其英文名称为Tokyo Electron Limited）获得日本局发明专利519项，比上一年增长了17%，是获得日本局专利授权数量第48多的机构。
相对来讲，东京电子株式会社专利研发的优势领域是：半导体制造、电热与等离子体、材料化学与纳米、半导体零配件、分离和混合加工作业。在这5个技术领域上，东京电子株式会社的专利份额相对较高，分别占同领域日本局专利数量的7.7%至0.8%。
从绝对数量上来看，东京电子株式会社的重点技术领域是：半导体制造、材料化学与纳米、电热与等离子体、分离和混合加工作业、光学和摄影。在这5个领域上获得了数量最多的日本局专利，达475至36项。
可见，东京电子株式会社的专利技术研发和专利布局重点主要集中在半导体制造领域。
表36.48-1 2021年东京电子株式会社主要技术领域的专利分布
技术领域 | 专利数量 | 占比（%） | |
1 | 半导体制造 | 475 | 7.7% |
2 | 电热与等离子体 | 93 | 2.8% |
3 | 材料化学与纳米 | 132 | 1.4% |
4 | 半导体零配件 | 17 | 1.0% |
5 | 分离和混合加工作业 | 56 | 0.8% |
6 | 半导体元件 | 29 | 0.6% |
7 | 半导体组件与集成电路 | 16 | 0.4% |
8 | 光电辐射测量与核物理 | 12 | 0.3% |
9 | 光学和摄影 | 36 | 0.3% |
10 | 物理测量 | 11 | 0.2% |
11 | 成型加工作业 | 23 | 0.1% |
12 | 照明与制冷制热 | 11 | 0.1% |
13 | 包装和储运 | 11 | 0.1% |
14 | 材料测试 | 8 | 0.1% |
15 | 物理信号和控制 | 6 | 0.1% |
16 | 基本电子电路 | 1 | 0.1% |
17 | 纺织、造纸和印刷 | 5 | 0.1% |
18 | 一般机械和武器 | 3 | 0.0% |
19 | 发电和输变电 | 3 | 0.0% |
20 | 计算机应用与软件工程 | 1 | 0.0% |
图36.48-1 2021年东京电子株式会社在20个相对优势领域中的专利占比
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授、大连理工大学杨中楷教授对本报告的大力支持与帮助。同时，向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
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