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2022年东京电子株式会社的在韩专利状况——半导体制造、电气元件与电路、材料化学与纳米技术较强
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陈立新 张琳 黄颖：中美欧日韩五局专利报告3896.docx
█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
第五部分 2022年韩国发明专利统计分析报告
43 主要机构的韩国专利布局
43.11 东京电子株式会社的韩国局专利状况
2022年，东京电子株式会社获得韩国专利601项，比上一年增长了32%，是获得韩国专利数量第11多的机构。
相对来讲，东京电子株式会社专利研发的优势领域是：半导体制造、电气元件与电路、材料化学与纳米、光学与摄影、半导体集成电路。其在这5个技术领域上的专利份额相对较高，为8.8%至0.6%。
表43.11-1 2022年东京电子株式会社主要技术领域的专利分布
| 技术领域 | 专利数量 | 占比（%） | |
| 1 | 半导体制造 | 493 | 8.8% |
| 2 | 电气元件与电路 | 129 | 1.4% |
| 3 | 材料化学与纳米 | 79 | 1.2% |
| 4 | 光学与摄影 | 52 | 0.8% |
| 5 | 半导体集成电路 | 9 | 0.6% |
| 6 | 光电测量与核物理 | 20 | 0.5% |
| 7 | 分离与混合加工 | 29 | 0.4% |
| 8 | 半导体元器件 | 15 | 0.3% |
| 9 | 金属成型加工 | 12 | 0.2% |
| 10 | 物理测量 | 7 | 0.2% |
| 11 | 材料测试 | 6 | 0.2% |
| 12 | 物理信号与控制 | 8 | 0.2% |
| 13 | 纺织与印刷 | 3 | 0.1% |
| 14 | 一般机械与武器 | 4 | 0.1% |
| 15 | 发电与输变电 | 3 | 0.1% |
| 16 | 制冷制热与照明 | 3 | 0.1% |
| 17 | 化工 | 3 | 0.0% |
| 18 | 发动机与泵 | 1 | 0.0% |
| 19 | 图像处理 | 1 | 0.0% |
| 20 | 计算机一般部件 | 1 | 0.0% |
注：占比（%）指其在某领域上的专利数量占该领域的比例。
从绝对数量上来看，东京电子株式会社的重点技术领域是：半导体制造、电气元件与电路、材料化学与纳米、光学与摄影、分离与混合加工。其在这5个技术领域上的专利数量最多，为493至29项。
可见，东京电子株式会社的专利技术研发重点主要集中在半导体制造领域。
图43.11-1 2022年东京电子株式会社在20个相对优势领域中的专利占比
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员对本报告的支持与帮助。同时，向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
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