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微电子制造科学与工程_第六章 快速热处理
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第六章 快速热处理_微电子制造科学与工程 更新日期 2017年3月19日
6 快速热处理_ 微电子制造科学与工程 20170319.pdf
视频：Silicon Run 系列_离子注入后半部分（27分50秒之后）
参考文献:
1. Metal silicides- An integral part of microelectronics JOM Journal of the Mineral.pdf
2. Self-Aligned Silicide Process.ppt
3. On the scaling issues and high-κ replacement of ultrathin gate dielectrics for .pdf
https://m.sciencenet.cn/blog-652849-563373.html
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